Електроний каталог - Науково-технічна бібліотека ім М.Є. Жуковського ХАІ

Cписок

Breus A., Serdiuk A., Ruzalkin V., Baranov O.
Discharge characteristics of the magnetron system for sputtering, deposition, and nanotechnology applications

Вид документа: Стаття періодики
Автор: Breus A., Serdiuk A., Ruzalkin V., Baranov O. Вид автора: персона
Мова: Англійська Обсяг: P. 72-79
УДК: 621.793.7:620.3

Аннотацiя:

Magnetron sputtering is known for years as a powerful tool for coating deposition of cutting tools and machine parts. However the experimental measurements of the magnetron discharge parameters are still necessary to provide a consumer of the magnetron system with the reliable characteristics. A voltage-current relation is the most applied characteristic of the discharge, and it is described as the power low of a type U = U0 + aIn, where U and I are the voltage drop and the discharge current, respectively, and U0 and n are constant. First part of the research is dedicated to the experiments conducted in the magnetron setup provided with the titanium cathode in a vacuum chamber filled with argon or argon-nitrogen mixture, and the constants are determined for the particular geometry of the magnetron sputtering system. The obtained results can be used to choose the operation modes for the traditional applications of the magnetron discharge such as ion cleaning and heating of the non-magnetic workpieces a

Переглянути електронну копію

Є складовою частиною документа: Авіаційно-космічна техніка і технологія

Відомості щодо назви

Паралельна назва:

Характеристики розряду магнетронної системи для розпилення, осадження покриттів та застосування у нанотехнології

Відомості щодо головного

Назва головного документа:

Авіаційно-космічна техніка і технологія

Дата видання головного документа:

2020

Номер частини головного документа:

Загальна інформація

Бібліографія:

Bibliogr.: 21 names.

Примітки

Загальні зауваження:

DOI: 10.32620/aktt.2020.6.08

Теми документа: