Форма пошуку
Назад
укр
рус
eng
Cписок
Levchenko I.G.
Numerical simulation of the film deposition from oscillating plasma system
Вид документа:
Складова частина документа
Автор:
Levchenko I.G.
Вид автора:
персона
Мова:
Англійська
Обсяг:
P. 291-294
УДК:
533.9
Є складовою частиною документа:
Авиационно-космическая техника и технология
Відомості щодо назви
Відомості про відповідальність
:
Государственный аэрокосмический университет им. Н.Е. Жуковского "ХАИ"
Відомості щодо головного
Вид автора головного документа
:
Персона
Назва головного документа
:
Авиационно-космическая техника и технология
Відомості щодо назви головного документа
:
труды
Відомості про відповідальність головного документа
:
М-во образования Украины, Гос. аэрокосм. ун-т им. Н.Е. Жуковского "Харьк. авиац. ин-т"
Місце видання головного документа
:
Харьков
Видавник головного документа
:
Гос. аэрокосмический ун-т "ХАИ"
Дата видання головного документа
:
1999
Номер частини головного документа
:
Вып. 10
Шифр головного документа
:
629.73
Авторський знак головного документа
:
А20
Теми документа:
УДК/UDC/ 5 Математика та природничі науки/Математика и естественные науки/Mathematics. Natural Sciences/ 53 Фізика/Физика/Physics/ 531/534 Механіка/Механика/Mechanics/ 533 Механiка газiв. Аеромеханiка. Фiзика плазми/Механика газов. Аэромеханика. Физика плазмы/Mechanics of gases. Aeromechanics. Plasma physics/ 533.9 Фізика плазми/Физика плазмы/Plasma physics
Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ/Works of KHAI employees/ Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ